ASML darf nur noch alte Lithografie-Systeme nach China verkaufen
Auf Druck der USA hin weiten die Niederlande die Exporteinschränkungen für ASML aus. Chinesische Firmen bekommen jetzt nur noch alte Belichter.
Im Bild: ASMLs Lithografie-System Twinscan NXT:1980Di, das grundsätzlich weiter nach China verkauft werden darf.
(Bild: ASML)
Der weltweit wichtigste Hersteller von Lithografie-Systemen ASML darf ab dem 1. September 2023 noch weniger Maschinen in Länder außerhalb der EU und deren Partner exportieren. Von da an gilt eine neue Regulierung für sogenannte Dual-Use-Halbleitergüter, also solche, die sowohl für zivile als auch militärische Zwecke geeignet sind.
Die Ankündigung der niederländischen Regierung führt es nicht explizit an, aber es geht primär um China – das Land gibt damit dem jahrelangen Druck durch die USA nach, der zum Jahresanfang noch mal verstärkt wurde. Die nationale Sicherheit wird als Grund angeführt.
Nur noch alte Belichter gestattet
Lithografie-Systeme belichten Silizium-Wafer – sie sind der elementarste Teil in der Chipfertigung. Bisher durfte ASML keine Lithografie-Systeme nach China liefern, die mit extrem-ultravioletter (EUV-)Belichtungstechnik arbeiten. Diese sind spätestens seit der 5-Nanometer-Generation für einige Verarbeitungsschritte notwendig. ASML ist der einzige Anbieter entsprechender Maschinen.
Die neuen Exporteinschränkungen zielen jetzt auch auf Lithografie-Systeme ab, die mit tief-ultraviolettem Licht (Deep Ultraviolet, DUV), also einer Wellenlänge von 193 statt 13,5 Nanometern arbeiten. Mit DUV-Belichtern hat der chinesische Chipauftragsfertiger SMIC bereits einen 7-nm-Prozess aufgelegt, soweit bekannt allerdings nur in Kleinserie.
Alte DUV-Systeme darf ASML allerdings weiterhin nach China verkaufen. In der Verordnung schreibt das niederländische Außenministerium, dass bestimmte Maschinen ab einer "Auflösung" von 45 nm betroffen sind. Die Auflösung wird mit einer Formel ermittelt: Wellenlänge der Lichtquelle in nm (hier 193) mal dem K-Faktor (0,25), geteilt durch die numerische Apertur (1,35).
Moderne Fertigung mit Einschränkungen
ASML schreibt in einer eigenen Mitteilung, dass der Twinscan NXT:2000i und alle neueren Lithografie-Systeme betroffen sind. Den Twinscan NXT:1980Di aus dem Jahr 2015 etwa darf die Firma anscheinend weiterhin an chinesische Firmen verkaufen, obwohl er sich mit Mehrfachbelichtungen (Multi-Patterning) grundsätzlich auch für 7-nm-Strukturen eignet.
Die Verordnung schränkt das Verbot auf Systeme ein, die eine Überdeckungsgenauigkeit von 1,5 nm oder besser aufweisen. Damit ist gemeint, wie genau sich die Silizium-Wafer und Belichtungsmasken übereinander ausrichten lassen. Je genauer die Justierung, desto niedriger ist die Fehlerquote im Herstellungsprozess. Der Twinscan NXT:2000i hat eine Überdeckungsgenauigkeit von weniger als 1,4 nm, der NXT:1800Di eine von 1,6 nm. Der aktuelle Twinscan NXT:2100i kommt auf unter 1,0 nm.
Laut ASML sollen sich die Verordnung zumindest dieses Jahr kaum auf den eigenen Umsatz auswirken. Das dürfte zum einen an den getroffenen Vorkehrungen liegen – die striktere Gesetzgebung deutete sich längst an und wird es zum September umgesetzt –, zum anderen hat ASML auch ohne chinesische Kunden einen milliardenstarken Produktionsrückstand. Theoretisch sind in Zukunft auch Ausnahmeregelungen mit Exportlizenzen möglich.
(mma)
